CVD Equipment Co.

Die CVD Equipment Corporation entwirft, entwickelt, produziert und verkauft zusammen mit ihren Tochtergesellschaften Prozessanlagen und -lösungen, die zur Entwicklung und Herstellung von Materialien und Beschichtungen für Forschungs- und Industrieanwendungen in den Vereinigten Staaten eingesetzt werden. Das Unternehmen ist in drei Segmenten tätig: CVD, SDC und CVD-Materialien. Das Unternehmen bietet chemische Gasphasenabscheidungssysteme für den Einsatz in der Forschung, Entwicklung und Herstellung von Luft- und Raumfahrt, medizinischen Komponenten, Halbleitern, LEDs, Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähten, Solarzellen und anderen industriellen Anwendungen sowie schnelle thermische Verarbeitungssysteme für den Einsatz bei der Implantataktivierung, Oxidation, Silizidbildung und anderen Prozessen. Darüber hinaus bietet das Unternehmen Glüh-, Diffusions- und Niederdrucköfen für die chemische Gasphasenabscheidung zur Verwendung in Diffusions-, Oxidations-, Implantat-Glüh-, Löt-Reflow-, Solarzellenherstellungs- und anderen Prozessen an. Darüber hinaus bietet das Unternehmen Standard- und kundenspezifisch gefertigte Quarzprodukte an, die in seinen Anlagen und anderen Kundenwerkzeugen verwendet werden, sowie Reparatur- und Ersatzleistungen für vorhandene Quarzprodukte. Darüber hinaus bietet es MesoPlasma-Direktdruck, ein Verfahren zur Materialbeschichtung, das Instrumente, feine Muster und Beschichtungen auf konforme Komponenten liefert, sowie Tantaline-Korrosionsschutzbeschichtungen für Ventile, Armaturen, Verschlüsse, Behälter, Faltenbälge und kundenspezifische Artikel und bietet Kohlenstoffverbundwerkstoffe und elektronische Materialien an. Das Unternehmen verkauft seine Produkte in erster Linie an Hersteller von elektronischen Bauteilen, Universitäten, Regierungs- und Industrielabors sowie an die Bereiche Luft- und Raumfahrt/Verteidigung und Medizin. Das Unternehmen wurde 1982 gegründet und hat seinen Hauptsitz in Central Islip, New York.

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